| 证券代码 | 688082.SH |
| 机构名称 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 |
| 英文名称 | ACM Research( Shanghai) ,Inc. |
| 上市日期 | 2021-11-18 |
| 公司简介 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“盛美上海”)成立于2005年,是上海市政府科教兴市项目重点引进的集成电路装备企业,是具备世界先进技术的半导体设备制造商。盛美上海集研发、设计、制造、销售于一体,为全球客户提供高端半导体设备。主要产品有单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备、前道涂胶显影设备及PECVD设备等。盛美上海坚持差异化竞争和创新的发展战略,通过自主研发的单片兆声波清洗技术、单片槽式组合清洗技术、电镀技术、无应力抛光技术和立式炉管技术等,向全球晶圆制造、先进封装及其他客户提供定制化的设备及工艺解决方案,有效提升客户的生产效率、提升产品良率并降低生产成本。公司具有高新技术企业资质,连续多年被评为“中国半导体设备五强企业”,先后承担多个国家科技重大专项项目的主要课题的研发。盛美上海立足自主创新,通过多年的技术研发和工艺积累,成功研发出全球首创的SAPS/TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗技术,应用于28nm及以下技术节点的晶圆清洗领域。SAPS和TEBO解决了兆声波清洗技术在单片清洗设备上应用的两大难题;Tahoe单片槽式组合清洗设备相比现有单片清洗设备大幅减少了硫酸的使用量,在帮助客户降低生产成本的同时,满足了节能减排的要求。盛美上海凭借先进的技术和丰富的产品线,已发展成为中国大陆少数具有一定国际竞争力的半导体专用设备提供商,产品得到众多国内外主流半导体厂商的认可,并取得良好的市场口碑。 |
| 主营产品 | 公司从事对先进集成电路制造与先进晶圆级封装制造行业至关重要的单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备和前道涂胶显影设备和等离子体增强化学气相沉积设备等的开发、制造和销售,并致力于为半导体制造商提供定制化、高性能、低消耗的工艺解决方案,有效提升客户多个步骤的生产效率、产品良率,并降低生产成本 |
| 所属国家 | China 中国 |
| 成立日期 | 2005-05-17 |
| 营业执照号 | 91310000774331663A |
| 组织机构代码 | |
| 注册资本（元） | 435707409 |
| 法人代表 | HUI WANG |
| 实际控制人 | HUI WANG |
| 最终控制人 | HUI WANG |
| 实际控制人变更 | 20200601 HUI WANG |
| 职工总数 | 1578 |
| 总经理 | 王坚 |
| 董事会秘书 | 罗明珠 |
| 董秘电话 | 021-50276506 |
| 省份 | 上海 |
| 城市 | 上海市 |
| 区县 | 浦东新区 |
| 注册地址 | 中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢 |
| 办公地址 | 中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢 |
| 办公邮政编码 | 201203 |
| 公司电话 | 021-50808868 |
| 公司传真 | 021-50808860 |
| 公司邮箱 | ir@acmrcsh.com |
| 公司网址 | www.acmrcsh.com.cn |
| 信息披露人 | 罗明珠 |
| 境内会计师事务所 | 立信会计师事务所(特殊普通合伙) |
| 注册会计师 | 张静、杜恒 |
| 经营范围 | 设计、生产、加工电子专用设备及其零部件,销售公司自产产品,并提供售后技术服务、维修和咨询服务。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】 |
| 律师事务所 | 北京市金杜律师事务所上海分所 |
| 证监会行业 | 专用设备制造业 |